现下的別说国內连台能做精密加工的普通工具机都得靠进口，更別说光刻机这种能刻出微米级电路的“国之重器”了，国外这会儿也都还没有摸到光刻机研发的门槛呢。
要研发光刻机最难的技术问题，首当其衝的是光学系统的精密適配。
光刻机刻蚀电路依赖的“光刀”，不仅需要稳定的能量输出，更要通过多组镜片实现光束聚焦与路径校准。
当前压根没有高精度光学加工设备，实验室里的镜片要么是从旧相机、望远镜里拆的二手货，要么是机修组用手工研磨的简易镜片，表面平整度误差常超过5微米，远达不到光刻要求的0.5微米標准。
其次是光刻胶的自主研发。
光刻时需要在硅片表面涂覆光刻胶，光束照射后，光刻胶会发生化学变化，再通过显影、蚀刻形成电路图案。
可当时国內没有专用光刻胶，只能用进口的普通感光胶替代，这种胶敏感度极低，要么曝光不足导致电路图案模糊，要么曝光过度让胶层开裂。所以，没有適配的光刻胶，也就无法稳定刻蚀电路。
最后是多环节的协同同步。
光刻不是“刻完就完”，从硅片清洗、涂胶，到光束刻蚀、显影蚀刻，每个环节都要精准衔接。
比如涂胶厚度需控制在3微米以內，厚了会导致显影不彻底，薄了又会让电路刻穿；显影时间差10秒，就可能让图案边缘残缺。
而之所以是她自己独立挑下光刻机研发的重担，是因为她有雷系异能和精神力。
这两种特殊能力，恰好可以辅助她快速完成技术攻坚。
雷系异能可以精准控制能量输出，模擬光刻机所需的高能光束。
普通设备要產生刻蚀电路的光束，得靠复杂的光学系统和能量供给装置，可基地里压根没有这种精密设备，因此黎洛屿的雷系异能就成了“天然能量源”。
她能將雷电能量压缩成极细的光束，能量强度能精確到毫焦级別，刚好满足微米级电路的刻蚀需求。
若是遇到光束偏移的问题，她还能靠异能微调能量轨跡，比机械装置的响应速度快上百倍，省去了反覆调试设备的时间。
若是光刻机刻蚀电路时，哪怕镜片有微米级的偏移、光束能量有一丝波动，都会导致电路报废。
而黎洛屿的精神力能拆分成成千上万道细微的“探针”，一道盯著光束能量变化，一道监测镜片位置，还有几道专门校准电路图案的精度，任何微小偏差都逃不过她的感知。
因此，光刻机的研发，於黎洛屿而言，並不复杂，无外乎就是耗费精神，透支点儿雷系异能罢了。