第375章 启明3 多重曝光(2 / 2)

报告中“45纳米芯片量产良率88.3%”“线宽误差±0.0037微米”等关键数据用红色方框标注,清晰醒目。

这一刻,不管是现场的观众,还是观看直播的网友,都是异常震撼,直播画面中,无数的弹幕飘过!

“这技术突破也太牛了!用65纳米设备造45纳米芯片,深蓝半导体藏得够深啊!”

“龙科院的检测报告都放出来了,数据造假根本不可能,这波实锤了!”

“以前总被国外卡脖子说我们造不出先进芯片,现在打脸来得猝不及防!”

“启明3代这配置,放在中端机里直接杀穿,坐等价格公布!”

“多重曝光,真是让人意外的技术!”

……

会场内的议论声如同潮水般涌起,刚才发问的扶桑记者脸色一阵青一阵白,却再也说不出质疑的话。

其他海外媒体记者则纷纷低头记录,笔尖划过笔记本的声响此起彼伏。

马元龙环视全场,语气愈发坚定:“不仅如此,这套自主芯片方案在性能上也实现了关键突破。”

他抬手示意工作人员送上真机,现场演示起多任务操作:“大家可以看到,同时运行星聊、导航、音乐三款应用,屏幕切换流畅无卡顿,后台内存占用仅47%。”

屏幕右下角的实时数据面板跳动着“cpU负载32%”“内存占用47%”的字样。甚至还有技术人员当场连接调试设备,读取芯片核心参数,证实其确实是45纳米制程。

片刻之后,马元龙举起手机,展示背部的摄像头模组,“除了核心芯片,启明3代的其他关键部件也实现了国产化突破……”

就在马元龙介绍国产屏幕时,楚天雄猛地放下茶杯,语气里满是按捺不住的激动:“没想到45纳米芯片还有这么多说道。多重曝光技术?深蓝半导体能够应用,想必其中难度不小吧?”

他虽然以前就知道启明三代用的是45纳米芯片,却是不知用65纳米光刻机生产45纳米芯片的难度。

楚千澜指尖轻叩茶几,目光落在电视里滚动的技术参数上,语气带着几分笃定。“多重曝光的难点不在原理,而在精度控制。

两次曝光的套刻误差要压到纳米级,光刻胶的感光度、显影对比度都得精准匹配,深蓝半导体尝试了三个多月才稳定良率。即便如此,多重曝光的良率也远远不如一次曝光。”

李玉莲端着水果盘走过来,轻轻放在两人面前,笑着插话:“你们父子俩一聊技术就停不下来,先吃点水果。千澜,妈就关心这手机好不好用,续航比以前的启明2代能强多少?”

“续航绝对是亮点。”楚千澜拿起一瓣橘子,“星源探索优化了电池管理算法,配合45纳米芯片的低功耗优势,即便相同的电池容量,续航也有明显提升。”

就在此时,电视里的马元龙恰好讲到续航部分。