文章标题定为《龙国半导体或迎来变革》，开篇便以总结的方式，将制作一枚芯片的各种需求罗列了出来。
从各种半导体原材料以及制作工艺，到先进光刻机，最后是指令集以及从设计到制备所需的各种软件。每罗列出一样，他都会对比国内外的差距。
洋洋洒洒几千字，几乎将龙国半导体与国外的差距写的明明白白。
最后话锋一转，写到这种长期落后的局面，正被一批本土企业悄然打破。
深蓝半导体近期宣布65纳米光刻机正式投产，这虽然不是龙国最先进的光刻机，但却是龙国唯一不受国外监督控制的先进光刻机。
更关键的是，深蓝半导体通过注资华宇特气、先锋晶圆等企业，生产出接近国际先进水准的半导体材料，打破国外行业巨头的垄断。
文章还根据网络汇总信息，言之凿凿的确认，龙科院发出的EdA非常强大，必然是尚未公布的芯片设计工具，顺便还提出，那EdA工具当中的指令集也是不为人知的一种新架构。
最后的总结，便是龙国半导体产业正在迈出关键一步。
深蓝半导体的光刻机投产、全新的EdA与指令集突破、材料企业的技术迭代，虽尚未能撼动国际巨头的垄断地位，但已在产业链关键环节撕开一道口子。
随着政策支持力度加大、企业研发投入持续增加，未来几年，龙国半导体或许将迎来从“追赶”到“局部超越”的变革。
……
女娲系统整理的这篇文章，所用数据全部来自于网络。在外人看来，这就是对最近舆论的总结。
文章匿名发布后，楚千澜又通过女娲系统将其转发到科技论坛当中。
普通网友对这种又长又枯燥的文章并不感兴趣，但那些专业人士却不一样。
科技论坛的“半导体产业”板块里，这篇长文刚发布半小时，就被业内人士顶至首页。
某芯片设计公司的资深工程师“老K”率先留言，用行业数据佐证文中观点：“我在实验室测试过华宇特气高纯氟化物气体样品，纯度确实能到99.999%，和扶桑某厂的产品仅差0.0005%，已经满足45n制程需求，距离28纳米的需求也不远了。”
紧接着，一位自称“高校微电子实验室研究员”的匿名用户补充：“我昨天专门去龙科院看过那套EdA工具，中文界面对本土团队很友好，性能不弱于现在流行的同类工具，过段时间就能公开授权。我很期待！”
也有网友提出担忧：“深蓝半导体规模太小了，就一台65n光刻机，每月产能撑死几万片晶圆，对比台机电的百万片级产能，还差得远。而且新EdA和指令集没有生态支撑，想替代进口工具，恐怕得五六年时间。”
就在众多业内人士发表评论的时候，星源探索发布公告。
公告以醒目的“星途EdA工具与星象指令集发布会将于12月15日召开”为标题。
开篇便点明核心：“历经三年努力，星源探索自主研发的星途EdA工具与星象指令集即将正式亮相，两大技术将打破国外垄断，为国产芯片设计提供全流程自主解决方案。”